三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

    三氟化氮，分子式：NF₃。氣體分子量：71.01，熔點：–206.8℃（1atm），沸點：–129℃（1atm），臨界溫度：–39.3℃，臨界壓力：44.02atm（4.46MPa），液體密度：1554 kg/m³（1atm，沸點時），氣體密度：2.95 kg/m（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10-5當量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體，當混入一定量的雜質氣體后顏色發黃，同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃，

但能助燃。當溫度超過350℃時，三氟化氮氣體會緩慢分解，分解時產生強氧化性氟。因此，在高溫下它是一種強氧化劑。CAS號：7783-54-2。危險性類別：第2.3類有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m