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微加工準分子氣體
微加工準分子氣體


工業技術的升級轉型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準分子激光的誕生,以其高光子能量所稱著,在對突破材料限制需求越來越迫切的時代,準分子激光器再次站在了尖端工業激光解決方案的最前沿。作為當今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術的代表,準分子激光器有效地推進了諸如半導體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機金屬沉淀、高溫超導、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫療、光纖、鉆石打標設備及可替代能源等多種成長型工業中的技術革新。準分子激光氣體是用于準分子激光設備中的激光發生器的關鍵氣體


常見的準分子激光氣體和波長相關:

可用波長

193 nm

ArF

248 nm

KrF

308 nm

XeCl

450nm~520nm

XeF


   

而具體的配比和包裝物和準分子激光設備的品牌和型號相關:


品 牌

機 型

波 長

準分子激光氣體

ATL

ATL ARF-1

193 nm

F2,Ar,Xe,Ne

ATL KRF-1

248 nm

F2,Kr,Xe,Ne

TUI

CTFTS-ARFV 2.2

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.1

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTFTS-KRFV 2.2

248 nm

F2,Kr,He,Xe,Ne

CTMD-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

CTMD-XECLV 2.1

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-ARFV 2.0

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-ARFV 2.1

193 nm

F2,Ar,He,Ne

CTMN-KRFV 1.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-KRFV 2.0

248 nm

F2,Kr,He,Ne

CTMN-XECLV 2.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XECLV 5.0

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

CTMN-XEFV 1.1

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

CTMN-XEFV 1.2

450nm~520nm

F2,Xe,He,Ne

GAM Laser

EX5 ArF

193 nm

F2,Ar,He,O2,Ne

EX5 KrF

248 nm

F2,Kr,He,Ne

EX5 XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne

EX10

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX50

193 nm

F2,Ar,He,Ne

EX100

193 nm

F2,Ar,He,Ne

Photomedex

XeCl

308 nm

HCl,Xe,Ne

Photoscribe

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

PotomacPhotonics

ArF

193 nm

F2,Ar,Ne

KrF

248 nm

F2,Kr,Ne

Spectranetics

XeCl

308 nm

HCl,H2,Xe,Ne



PUREGAS 只需要您提供所用激光設備的品牌型號和輸出激光的波長,就可以為您提供所需的特定配比的準分子預混氣體!


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